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makeway 近常壓X射線光電子能譜儀

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上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司(Shanghai Makeway Semiconductor LTD)是一家專業(yè)的微納材料、半導(dǎo)體和微電子材料及器件研發(fā)儀器及設(shè)備的供應(yīng)商,所銷售的儀器設(shè)備廣泛用于高校、研究所、以及半導(dǎo)體和微電子領(lǐng)域的高科技企業(yè)。目前總部在上海,香港、南通、深圳、北京分別設(shè)立分公司和辦事處,快速響應(yīng)客戶需求。同時(shí)上海麥科威在快速擴(kuò)展海外市場(chǎng),并設(shè)立新加坡分公司,輻射東南亞市場(chǎng)。

      上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司主要銷售產(chǎn)品包括:  - 霍爾效應(yīng)測(cè)試儀;  - 快速退火爐;  - 回流焊爐,共晶爐,釬焊爐,真空燒結(jié)爐;  - 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī),熱蒸發(fā)鍍膜機(jī);  - 探針臺(tái),低溫探針臺(tái),微探針臺(tái);  - 金剛石劃片機(jī); - 球焊機(jī),鍥焊機(jī);  - 磁控濺射鍍膜機(jī);  - 原子層沉積系統(tǒng),等離子增強(qiáng)原子層沉積設(shè)備;  - 電化學(xué)C-V剖面濃度分析儀(ECV Profiler); - 掃描開爾文探針系統(tǒng); - 光學(xué)膜厚儀; -貼片機(jī)-PECVD\CVD;-脈沖激光沉積系統(tǒng)-PLD-納米壓?。?等離子清洗機(jī)、去膠機(jī);-反應(yīng)離子刻蝕RIE; - 光刻機(jī)、無掩膜光刻機(jī); - 勻膠機(jī); - 熱板,烤膠板; -少子壽命、太陽能模擬器;-NMR-瞬態(tài)能譜儀-外延沉積-等離子清洗機(jī)-離子注入-劃片機(jī)、裂片機(jī)光刻機(jī)(針尖/電子束光刻機(jī)EBL,紫外光刻機(jī),激光直寫光刻機(jī)),鍍膜機(jī)(磁控濺射機(jī),電子束蒸發(fā)機(jī),化學(xué)沉積機(jī),微波等離子沉積機(jī),原子層沉積機(jī)  等等…

企業(yè)客戶:華為技術(shù)有限公司, 深圳市鵬芯微集成電路制造, 深圳清力技術(shù), 安徽格恩半導(dǎo)體, 蘇州稀晶半導(dǎo)體科技, 矽品半導(dǎo)體, 廈門海辰新能源科科, 中核同創(chuàng)(成都)科技, 洛瑪瑞芯片技術(shù)(常州),偉創(chuàng)力科技, 奧普科星河北科技,廣東五星太陽能,廣東萬和集團(tuán),西安西測(cè)股份, 普源精電科技, 普源精電科技股份, 上海蔚來汽車, 北京華脈泰科, 廣醫(yī)東金灣高景太陽能科技, 深圳匯佳成電子, 深圳市化訊半導(dǎo)體材料, 珠海珍迎機(jī)電, 合肥鼎材科技, 山東金晶節(jié)能玻璃, 江蘇云意電氣股份, 廣東風(fēng)華技股份, 浙江中能合控股集團(tuán),固安維信諾,淮安天合光能,浙江老鷹半導(dǎo)體, 四川信通電子科技等。


科研院所/高等院校: 北京航空航天大學(xué), 汕頭大學(xué), 南方醫(yī)科大學(xué), 清華大學(xué), 北京大學(xué), 復(fù)旦大學(xué), 西北工業(yè)大學(xué), 南京醫(yī)科大學(xué), 香港中文大學(xué), 香港城市大學(xué), 蘇州大學(xué), 深圳職業(yè)技術(shù)學(xué)院, 南京大學(xué)合肥國家試驗(yàn)室, 上海交通大學(xué)醫(yī)學(xué)院, 華南理工大學(xué),華東師范大學(xué),江南大學(xué),重慶26所, 深圳大學(xué), 南方科技大學(xué), 深圳技術(shù)大學(xué), 理化技術(shù)研究所, 中國工程物理研究院激光聚變研究中心, 廣東粵港澳大灣區(qū)黃埔材料研究院, 桂林電子科技大學(xué), 上海硅酸鹽研究所, 中國航天五院,中科合肥智慧農(nóng)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新研究院等。

 

 

 

 

 

 

 

 

半導(dǎo)體設(shè)備,快速退火爐,原子層沉積,鍵合機(jī),光刻機(jī)

價(jià)格區(qū)間 面議 儀器種類 進(jìn)口
應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

近常壓X射線光電子能譜儀技術(shù)參數(shù):

1.近常壓XPS真空系統(tǒng),包含分析腔和快速進(jìn)樣腔

1.1分析腔采用μ金屬腔體或不銹鋼腔體加消磁線圈

1.2分析腔配備分子泵以及前級(jí)泵,真空≤5×10-9mbar

1.3快速進(jìn)樣腔采用不銹鋼腔體

1.4快速進(jìn)樣腔配備分子泵和前級(jí)泵,真空≤5×10-8mbar

2.電子能量分析器

2.1半球型,平均半徑150mm

2.2四級(jí)差分抽氣系統(tǒng),一級(jí)和二級(jí)差分抽氣之間配有閥門,可以實(shí)現(xiàn)真空腔體進(jìn)氣時(shí)保證分析器的真空度

2.3工作壓力最大可達(dá)25mbar

2.4分析器接收角:≥44o

2.5工作距離:300-500μm

2.6八個(gè)入口狹縫,三個(gè)出口狹縫

2.7能量分辨率:≤10meV

2.8探測(cè)能量范圍可達(dá)3.5keV

2.9Ag 3d峰計(jì)數(shù)率(在Al靶X光源束斑≤250μm,20W條件下):≥70kcps在UHV條件;≥7kcps在10mbar N2條件;≥0.5kcps在25mbar N2條件

2.10配有一維探測(cè)器(ADCMOS)

3.單色化陽極靶微聚焦X射線光源

3.1類型:?jiǎn)紊疉l/Ag/Cr三陽極靶

3.2工作范圍:10-10 –25mbar

3.3Al靶光斑尺寸:≤200μm

3.4Al靶光通量≥1.0x1010photons/s;Ag靶光通量≥1.0x109photons/s,Cr靶光通量≥1.0x1010photos/s

3.5配有差抽系統(tǒng)

3.6配套水冷機(jī)組,最大水壓可達(dá)9bar

4.近常壓X射線光電子能譜儀進(jìn)氣氣路

4.1配有三路進(jìn)氣管路系統(tǒng),配備質(zhì)量流量計(jì),用于氣體通入

4.2帶有自動(dòng)壓力控制,壓力范圍:1-30mbar

5.分析腔四軸全自動(dòng)樣品架

5.1四軸樣品架移動(dòng)范圍:

X=±12.5mm

Y=±12.5mm

Z方向范圍隨系統(tǒng)配置

P=±180°polar(極角)

5.2四軸全自動(dòng)化馬達(dá)

5.3配備150W紅外激光加熱器,在25mbar N2條件下,樣品溫度最高可達(dá)1000℃

5.5配有液氮冷卻,樣品溫度可到150K

6. 紫外光源

6.1束流密度>2x1016 photons/(sec x sterad)

6.2能量分辨率:FWHM<2meV

6.3可用氣體:He、Ne、Ar等

6.4樣品上束斑尺寸:<500μm

6.5可在近常壓環(huán)境下進(jìn)行UPS測(cè)試




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