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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
Nanosystem NV-2400 3D輪廓儀是經(jīng)濟(jì)型機(jī)型，通過(guò)非接觸式的方法對(duì)0.1nm-270nm的3維表面形貌進(jìn)行高進(jìn)度和高速測(cè)量。利用物鏡轉(zhuǎn)臺(tái)可方便的進(jìn)行放大倍數(shù)的轉(zhuǎn)換。使用拼接功能可分析寬廣的表面。
詳細(xì)介紹
Nanosystem NV-2400 3D輪廓儀是一款適用于各種表面的快速非接觸式三維輪廓儀。XY自動(dòng)平臺(tái)，而Z軸是手動(dòng)的。納米系統(tǒng)主要是為R&D、高校和過(guò)程管理用戶而設(shè)計(jì)。Nanosystem用自己Patented算法和白光干涉技術(shù)創(chuàng)造硬件和軟件。它可以通過(guò)拼接函數(shù)測(cè)量大視場(chǎng)(500mm2)。Patented WSI/PSI技術(shù)測(cè)量各種表面材料和參數(shù)，包括表面紋理、形狀、臺(tái)階高度和更高的二維和三維剖面(0.1 nm-垂直和0.2 um-橫向分辨率)。Patented WSI/PSI技術(shù)測(cè)量各種表面材料和參數(shù)，包括表面紋理的2D和3D輪廓，形狀，臺(tái)階高度及以上(0.1nm-垂直和0.2微米-橫向分辨率)。
白光掃描干涉技術(shù)(WSI)是一種測(cè)量高分辨率(0.1nm)、高速測(cè)量表面積、高度和體積的技術(shù)。在不破壞任何破壞的情況下，納米系統(tǒng)的WSI技術(shù)(白光掃描干涉法)能在幾秒鐘內(nèi)從0.1nm到10000米范圍內(nèi)測(cè)量樣品，并提供真實(shí)的樣品三維形狀。此外，重復(fù)性小于0.1%(1σ)，無(wú)論放大，z軸分辨率為0.1nm?；诩{米系統(tǒng)技術(shù)的精度(高精度、重復(fù)性和重復(fù)性)，該產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、印刷電路板、顯示、工程部件、化工材料、光學(xué)部件、生物、R&D等領(lǐng)域。
Nanosystem NV-2400 3D輪廓儀?提供高分辨率(0.1nm)、10萬(wàn)倍放大率(10 Mm)和高清晰度圖像，在0.1nm至10000 m范圍內(nèi)，在2秒內(nèi)測(cè)量樣品，提供真實(shí)的2D/3D樣品形狀，無(wú)需準(zhǔn)備(只需將樣品直接放在舞臺(tái)上)，測(cè)量任意尺寸和幾乎任何材料的樣品(反射率為1%)。
NV-2400的優(yōu)點(diǎn)
· 優(yōu)良的測(cè)量精度
· 抗振動(dòng)設(shè)計(jì)
· 快速測(cè)量速度
· 友好的測(cè)量界面
· Stitching功能
· 2D和3D多功能性能
主要功能
· 3D 形貌測(cè)量
· 粗糙度 (ISO 25178) 和平整度 (選項(xiàng))
· 高度，深度，寬度(從亞納米到10mm)·
· 面積信息(體積，面積)
· 2D和3D 測(cè)量
產(chǎn)品規(guī)格
· 干涉物鏡：5個(gè)物鏡可選
· 掃描范圍：0-180um（270um，5mm可選）
· 垂直分辨率：WSI：﹤0.5nm ，PSI ：﹤0.1nm
· 傾斜臺(tái)：±6°
· Z軸行程：100mm（手動(dòng)）
· 工作臺(tái)面：100X100mm（程控)