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雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)的特點和應用場景
雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)利用高能激光在非線性光學晶體中產(chǎn)生的雙光子吸收效應，通過激光與材料相互作用引發(fā)局部光化學反應，直接實現(xiàn)微納結(jié)構的加工。無需傳統(tǒng)掩膜版，極大簡化了工藝流。
1、核心優(yōu)勢：
超高精度：分辨率達100nm，表面粗糙度Ra＜5nm，支持2.5D/3D微納結(jié)構加工。
設計自由度：無需掩膜，通過CAD直接設計結(jié)構，支持快速迭代與小批量定制化生產(chǎn)。
材料兼容性：適用于金屬、半導體（如InP、SOI）、聚合物（如光敏樹脂）等多種材料。
工業(yè)化潛力：如Nanoscribe的Quantum X系統(tǒng)可實現(xiàn)6英寸晶圓級批量加工，通宵產(chǎn)能達200個標準結(jié)構。
2、應用場景：
微電子與光子學：制造微處理器、MEMS傳感器、光子晶體等，提升器件集成度與性能。
生物醫(yī)學：打印生物芯片、微流控芯片、細胞支架等，用于疾病診斷、藥物篩選及組織工程。
光學器件：加工自由曲面透鏡、光纖耦合器等，實現(xiàn)光學組件的小型化與功能集成。
納米技術：制備納米傳感器、量子點等，推動納米電子與納米光子學的研究。