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那諾中國(guó)有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第11年

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  • 晶圓厚度/電阻率/PN摻雜型測(cè)量?jī)x MX6012

    晶圓厚度/電阻率/PN摻雜型測(cè)量?jī)x MX6012專為硅片性能表征而設(shè)計(jì)，集成了非接觸式厚度測(cè)量、電阻率檢測(cè)及 P/N 型摻雜識(shí)別傳感器。

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/28 23:49:09 對(duì)比
    晶圓厚度測(cè)量?jī)x晶圓測(cè)厚儀晶圓電阻率測(cè)量晶圓厚度測(cè)量晶圓P/N型檢測(cè)
  • 非接觸式晶圓厚度測(cè)量?jī)x MX 301-Q

    非接觸式晶圓厚度測(cè)量?jī)x MX 301-Q是一款堅(jiān)固耐用、性能穩(wěn)定的晶圓厚度測(cè)量系統(tǒng)，用于快速、簡(jiǎn)單地手動(dòng)測(cè)量各類硅片的厚度，特別適用于由石英、藍(lán)寶石或玻璃等絕緣...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/21 22:36:37 對(duì)比
    晶圓厚度測(cè)量?jī)x晶圓測(cè)厚儀晶圓測(cè)厚非接觸式晶圓厚度測(cè)量?jī)x晶圓厚度測(cè)量設(shè)備
  • Parylene派瑞林鍍膜機(jī)

    Parylene派瑞林鍍膜機(jī)是一款多功能設(shè)備，專為實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用優(yōu)化設(shè)計(jì)，配備內(nèi)置等離子體源，可用于材料表面預(yù)處理。通過(guò)Parylene涂敷后的產(chǎn)品具有高度的絕緣強(qiáng)...

    型號(hào)： Labcoater... 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/18 17:43:26 對(duì)比
    派瑞林真空鍍膜派瑞林鍍膜設(shè)備派瑞林鍍膜機(jī)派瑞林真空鍍膜機(jī)派瑞林真空鍍膜設(shè)備
  • Parylene派瑞林真空鍍膜設(shè)備

    Parylene派瑞林真空鍍膜設(shè)備廣泛應(yīng)用于多個(gè)行業(yè)，包括航天航空、半導(dǎo)體、新能源、軍工、汽車、手機(jī)、新型顯示、電子元器件、光通訊、軌道交通、3C數(shù)碼及電子等領(lǐng)...

    型號(hào)： 所在地：德國(guó)參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 15:26:04 對(duì)比
    派瑞林真空鍍膜機(jī)派瑞林鍍膜機(jī)派瑞林鍍膜設(shè)備派瑞林鍍膜parylene鍍膜設(shè)備
  • CMP后清洗機(jī)-單晶圓/掩膜版兆聲清洗

    CMP后清洗機(jī)-單晶圓/掩膜版兆聲清洗：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕...

    型號(hào)： SWC4000 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 15:24:01 對(duì)比
    兆聲清洗機(jī)晶圓清洗機(jī)晶圓清洗設(shè)備cmp后清洗機(jī)掩膜版清洗機(jī)
  • 晶圓厚度測(cè)量?jī)x MX 102-8

    晶圓厚度測(cè)量?jī)x MX 102-8適用于 150 - 200 mm硅片的高分辨率厚度與平整度（TTV）測(cè)量?jī)x。只需幾秒鐘即可輕松適應(yīng)不同厚度范圍，可集成到自動(dòng)機(jī)器...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 15:22:11 對(duì)比
    晶圓厚度測(cè)量?jī)x晶圓測(cè)厚儀晶圓厚度測(cè)量設(shè)備非接觸式晶圓厚度測(cè)量?jī)x晶圓測(cè)厚
  • 薄膜應(yīng)力測(cè)試儀

    FLATSCAN 薄膜應(yīng)力測(cè)試儀用于對(duì)各種反射面（如硅片、鏡面、X 射線鏡（Goebel-mirrors）、金屬表面或拋光聚合物）的平整度、表面曲率、平均半徑和...

    型號(hào)： FLATSCAN 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 15:20:44 對(duì)比
    應(yīng)力測(cè)試儀薄膜應(yīng)力測(cè)試儀應(yīng)力檢測(cè)儀應(yīng)力儀應(yīng)力測(cè)試設(shè)備
  • 晶圓測(cè)厚儀 MX203-4-21

    晶圓測(cè)厚儀 MX203-4-21是一款手動(dòng)載片的晶圓幾何特性量測(cè)儀，適用于直徑分別為 50 mm、75 mm和 100 mm的硅片。該設(shè)備專為控制晶圓厚度與形狀...

    型號(hào)： 所在地：德國(guó)參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 15:18:53 對(duì)比
    晶圓測(cè)厚儀晶圓厚度測(cè)量?jī)x晶圓厚度測(cè)量?jī)x器晶圓厚度測(cè)量晶圓TTV測(cè)量
  • NRE-3500（A）全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

    NRE-3500（A）全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕機(jī)：自動(dòng)上下栽片，PC控制的RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜，13“頂蓋式圓柱形鋁腔...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 15:16:42 對(duì)比
    反應(yīng)離子刻蝕機(jī)價(jià)格RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)進(jìn)口反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
  • RIE-PE刻蝕機(jī)

    NRE-4000型RIE-PE刻蝕機(jī)：提供PC控制的PE刻蝕RIE刻蝕一體機(jī)，配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁...

    型號(hào)： NRE-4000 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 15:14:55 對(duì)比
    帶PE刻蝕的RIE刻蝕機(jī)PE刻蝕RIE刻蝕一體機(jī)進(jìn)口雙模式刻蝕機(jī)帶RIE的PE刻蝕機(jī)RIE刻蝕PE刻蝕一體機(jī)
  • NSC-3000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-3000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：臺(tái)式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 15:13:28 對(duì)比
    NSC-3000磁控濺射系統(tǒng)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)進(jìn)口全自動(dòng)濺射臺(tái)全自動(dòng)濺射鍍膜機(jī)
  • 進(jìn)口ALD設(shè)備

    進(jìn)口ALD設(shè)備：ALD原子層沉積可以滿足膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過(guò)其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會(huì)帶來(lái)影響，所以在...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 15:11:30 對(duì)比
    ALD進(jìn)口ALD全自動(dòng)原子層沉積進(jìn)口全自動(dòng)ALD
  • NRE-3000型RIE-PE刻蝕機(jī)

    NRE-3000型RIE-PE刻蝕機(jī)：PC控制的RIE刻蝕PE刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 15:09:27 對(duì)比
    帶PE刻蝕的RIE刻蝕機(jī)PE刻蝕RIE刻蝕一體機(jī)RIE刻蝕PE刻蝕一體機(jī)帶RIE的PE刻蝕機(jī)
  • NIE-4000 IBE離子束刻蝕機(jī)

    NIE-4000 IBE離子束刻蝕機(jī)：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過(guò)加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。樣品表...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 15:04:56 對(duì)比
    離子束刻蝕機(jī)ibe刻蝕離子束刻蝕ibe離子束刻蝕ibe離子束刻蝕機(jī)
  • NSC-3500（M）磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-3500（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 15:02:46 對(duì)比
    Sputter System進(jìn)口磁控濺射系統(tǒng)磁控濺射臺(tái)進(jìn)口真空鍍膜儀
  • 單晶圓/硅片/掩膜版清洗機(jī)

    單晶圓/硅片/掩膜版清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。它可...

    型號(hào)： SWC4000 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 14:58:50 對(duì)比
    兆聲清洗機(jī)晶圓清洗機(jī)晶圓清洗設(shè)備硅片清洗設(shè)備掩膜版清洗機(jī)
  • LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備

    LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 14:56:22 對(duì)比
    晶圓清洗設(shè)備晶圓清洗機(jī)硅片清洗設(shè)備半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備硅片清洗機(jī)
  • SWC4000 掩模版兆聲清洗機(jī)

    SWC4000 掩模版兆聲清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 14:55:23 對(duì)比
    兆聲清洗機(jī)晶圓清洗機(jī)晶圓清洗設(shè)備硅片清洗設(shè)備半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備
  • 晶圓接觸角測(cè)量?jī)x

    SURFTENS HL 200 晶圓接觸角測(cè)量?jī)x專為半導(dǎo)體工業(yè)及科研領(lǐng)域開(kāi)發(fā)，特別適用于硅片表面處理過(guò)程中的工藝控制。它是分析硅片接觸角與潤(rùn)濕性的理想工具，能夠...

    型號(hào)： SURFTENS ... 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 14:53:44 對(duì)比
    接觸角測(cè)量?jī)x接觸角測(cè)試儀接觸角測(cè)定儀接觸角儀光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x
  • 全自動(dòng)接觸角測(cè)量?jī)x

    SURFTENS HL 200 automatic全自動(dòng)接觸角測(cè)量?jī)x專為半導(dǎo)體工業(yè)和科研領(lǐng)域設(shè)計(jì)，尤其適用于晶圓涂覆及光刻工藝中的工藝控制。

    型號(hào)： SURFTENS ... 所在地：德國(guó)參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 14:51:26 對(duì)比
    全自動(dòng)接觸角測(cè)量?jī)x接觸角測(cè)量?jī)x接觸角測(cè)試儀接觸角測(cè)定儀接觸角儀
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