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近日，NANO-MASTER工程師至浙江中寧硅業(yè)有限公司，順利安裝驗(yàn)收NPE-3500型PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備！

NANO-MASTER的PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2、Si3N4、CNT、DLC和SiC等薄膜?？蓱?yīng)用于等離子誘導(dǎo)表面改性、等離子清洗、等離子聚合等。根據(jù)不同應(yīng)用，可選用RF、HCP、ICP或MW微波等多種規(guī)格的離子源。標(biāo)準(zhǔn)樣品臺尺寸有6"和8"可選，最高可定制到16"或者其他更大的尺寸，樣品臺可提供RF、Pulse DC或DC偏壓。樣品臺可提供電阻加熱或紅外燈加熱。

系統(tǒng)標(biāo)配渦輪分子泵和機(jī)械泵，極限真空到5*10-7Torr，腔體壓力調(diào)節(jié)通過PC自動控制渦輪速度而全自動調(diào)節(jié)，快速穩(wěn)定。

工藝過程通過觸摸監(jiān)控屏幕和Labview軟件，可實(shí)現(xiàn)全自動的PC控制，具有高度的可重復(fù)性。系統(tǒng)具有完整的安全聯(lián)鎖，提供四級密碼授權(quán)訪問保護(hù)。能直接研發(fā)和量產(chǎn)應(yīng)用。