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真空旋轉涂膜機

是一款專為實驗室設計的薄膜制備設備，廣泛應用于大專院校、科研院所的膠體或溶液涂覆工藝。以下為詳細介紹：

一、核心功能與特點

1. 薄膜均勻涂覆
   通過高速旋轉（500-8000rpm）使粘滯性較高的膠體、溶液等材料均勻分布在樣品表面，適用于半導體、晶體、制版等精密涂覆場景

2. 真空吸附固定
   采用真空吸盤（標配?25mm、?50mm、?100mm聚丙烯吸盤）固定樣品，操作簡便且穩(wěn)定性高，減少偏心導致的震動或飛片問題

3. 雙段程序控制
   支持兩段速度控制：第一段低速注膠，第二段高速勻膠，提升涂層均勻性；時間設置范圍為1-60秒

4. 耐腐蝕與低噪音設計

• 鑄鋁機身結構穩(wěn)定，運行噪音低

• 可選聚四氟乙烯或鋁合金吸盤，適配強酸/堿性溶液環(huán)境

二、技術參數(shù)

• 電源要求：AC220V 50Hz，功率148-150W，需良好接地

• 轉速范圍：500-8000rpm（精度±1%）

• 真空泵流速：≥60L/min（標配無油真空泵，環(huán)保易維護）

• 環(huán)境條件

• 海拔≤1000m，溫度5-40℃，濕度≤85%RH

• 工作臺需承重50kg以上，尺寸600×600×700m

三、設備結構與配件

1. 標準配置

• 真空吸盤（3種尺寸）、滴液器、無油真空泵、橡膠管等

2. 可選配件

• 微型吸盤、過濾器、移液器（進口/國產(chǎn)）、特殊材質吸盤（如聚四氟乙烯）

3. 尺寸與重量

• 主機尺寸400×300×200mm，重量20kg

四、典型應用場景

• 科研領域：半導體薄膜、光學鍍膜、電池電極涂覆等

• 教學實驗：材料科學、化學實驗室的薄膜生成與均勻性研究

五、操作與維護

• 安全性：具備開蓋保護功能，運行中開蓋即自動減速停機

• 維護建議：定期清潔吸盤與腔體，檢查真空泵過濾裝置

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真空旋轉涂膜機