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Beneq ProdigyALDPX 1950
Beneq Transform® 300ALDPX 1950
ALD原子層沉積緊湊、經(jīng)濟(jì)型PX 1782
AT-200M桌面原子層沉積系統(tǒng)ALDPX 1782
AT 200M臺(tái)式原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱PX 1782
SENTECH SILAYOPEARD系統(tǒng)PX 1950
SI PEALDPEALD 系統(tǒng)PX 1950
FlexAL原子層沉積(ALD)PX 1950
工業(yè)半導(dǎo)體微納加工二維材料實(shí)驗(yàn)室設(shè)備PX 1907
PE鉑金埃爾默ICPMSPX 1907
氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射PX 1907
便攜式樣品傳送腔體沉積系統(tǒng)PX 1907
插拔式加熱器沉積系統(tǒng)PX 1907
脈沖激光沉積靶臺(tái)PX 1907
脈沖激光沉積系統(tǒng)激光光路PX 1907
單腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)PX 1907
雙腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)PX 1907
電漿原子層沉積設(shè)備PX 1907
原子層沉積設(shè)備2PX 1907
原子層沉積系統(tǒng)PX 1907
批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備PX 1907
FPD-PECVD 電漿輔助化學(xué)氣相沉積PX 1907
感應(yīng)耦合電漿化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1907
低真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1907
電漿輔助式化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1907
化學(xué)氣相沉積PX 1907
PECVD等離子沉積設(shè)備DEPOLAB 200PX 1907
帶預(yù)真空室的化學(xué)氣相沉積設(shè)備SI 500 PPDPX 1907
等離子沉積設(shè)備SI 500 DPX 1907
化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 1907
沉積系統(tǒng)PX 1907
SENTECH二維材料刻蝕沉積PX 1907
原子層沉積設(shè)備PX 1907
PECVD等離子沉積設(shè)備PX 1907
帶預(yù)真空室的化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1907
等離子沉積設(shè)備PX 1907
QBT-T雙腔體高真空等離子體原子層沉積系統(tǒng)PX 3125
Mini Desktop ALDPALD廠家PX 3125
GM10/100/1000粉末ALD廠家PX 3125
Mini DesktopALDPX 3125
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
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干法工藝設(shè)備
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組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
Beneq原子層沉積系統(tǒng)
BENEQ原子層沉積系統(tǒng)
原子層沉積系統(tǒng)
大尺寸臺(tái)式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD
等離子體增強(qiáng)原子層沉積PEALD
熱原子層沉積
桌面原子層沉積系統(tǒng)ALD
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